用于半导体制造的掩模坯料/光掩模
掩模板和光掩模是半导体芯片制造过程中不可缺少的，并且充当将半导体精细和复杂的电路图案转移到半导体晶圆上的模板。 HOYA的掩模基板市场占有率全球第一，供应给日本及海外的半导体和掩模制造商。
由于集成度的提高，半导体变得越来越精细。制造过程中使用的曝光设备的光源也在不断发展，从现在的ArF激光器到下一代EUV（极紫外）曝光。这有望进一步提高半导体的集成度，使电子设备速度更快、功能更强。 HOYA 将继续开发 EUV 掩模基板和光掩模，以支持半导体的发展。
掩模板和光掩模是半导体芯片制造过程中不可缺少的，并且充当将半导体精细和复杂的电路图案转移到半导体晶圆上的模板。 HOYA的掩模基板市场占有率全球第一，供应给日本及海外的半导体和掩模制造商。